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論文

Preferential formation of alkenes from the radiolysis of CH$$_{4}$$/N$$_{2}$$O mixture in the presence of molecular sieve 5A

清水 雄一; 永井 士郎

Applied Radiation and Isotopes, 41(5), p.457 - 461, 1990/00

モレキュラーシーブ5A存在下でメタンを電子線照射した時の生成物収量に及ぼす亜酸化窒素の添加効果を調べた。6mol%の亜酸化窒素を含むメタンを480$$^{circ}$$Cで電子線照射すると、C$$_{2}$$およびC$$_{3}$$炭化水素が選択的に生成するとともに、エチレンおよびプロピレンがエタンおよびプロパンよりも優先的に生成することを見出した。亜酸化窒素の添加によるメタンからのアルケン生成の増感作用は亜酸化窒素の分解によって生成したO$$^{-}$$によることがわかった。このO$$^{-}$$はメタンの放射線分解によって生成したエタンおよびプロパンのみならず、原料メタンとも反応することを見出した。また、この反応はモレキュラーシーブ5Aの細孔内で起こり、その形状選択性のためにエタンの方がプロパンよりも反応性が高いことを明らかにした。これらの結果に基づいて、反応機構を考察した。

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